抗日纪念馆，数字化纪念馆建设，烈士纪念馆展厅设计公司

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正面6面窗户设计成上窄下宽，类似枪的形态，隐喻“枪杆里出政权”的思想。北面的窗户设计成小开口，且成对出现，隐喻敌人的眼睛在窥视。纪念馆分上下两层，高度15.8米,建筑面积7365平方米，采用规整的柱网和开敞的空间设计，提供了高效、灵活的展览空间。

纪念馆是为纪念有卓越贡献的人或重大历史事件而建立的陈设实物、图片等的建筑物，用声、光、电、图、实物等多方面来表现事件的精神

设计利用场地现状西高东低的特点，在保留现状古树的前提下，巧妙的将建筑体量嵌入场地。主体建筑置于高台北侧，合理利用地形高差，将临展、报告厅及库房、办公等辅助功能设置于一层，与场地中央的现状高台融为一体，作为主展厅的基座

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